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PDF/月刊誌論文/code:pg_0609_10 マテリアル インテグレーション 2006年9月号
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PDF/月刊誌論文/code:pg_0609_10 マテリアル インテグレーション 2006年9月号
ELECTRONIC CERAMICS エレクトロニクセラミックス薄膜
強誘電体のLSI応用-FRAM-
■著者
株式会社富士通研究所 シリコンテクノロジ開発研究所 丸山 研二
■要約
本稿では,このようなFRAMと強誘電体の係わりをLSIデバイスへの応用という観点から紹介する.最初に,強誘電体を用いた半導体メモリの発展を歴史的な時間軸で捉える.次に,FRAMの特徴を述べ,LSI応用のコア技術であるFRAMの回路設計について説明する.最後にFRAMのプロセス技術の概略と要点を述べ,本稿の締めくくりとしたい.
