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PDF/月刊誌論文/code:pg_0611_02マテリアル インテグレーション 2006年11月号
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PDF/月刊誌論文/code:pg_0611_02 マテリアル インテグレーション 2006年11月号
MATERIALS INTEGRATION ウルツァイト化合物の合成と物性
CVD法による酸化亜鉛薄膜の合成
■著者
独立行政法人 物質・材料研究機構 物質研究所 電子セラミックスグループ 坂口 勲
■要約
本研究では,新しく開発したCVD法を用いて酸化亜鉛薄膜と金との関係を研究した.本装置を用いれば通常のLVSプロセスより基板温度が低く抑えられる.基板温度を下げた研究としては,スパッタ法を応用した例がある.酸化亜鉛薄膜は金に直接成長し,c軸配向し,結晶内には欠陥が入ることが示されている.本研究では有機系亜鉛をソースとすることで,酸化亜鉛成長ではより複雑な反応が関与すると考えられ,これまでとは異なった成長様式が期待できる.
