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PDF/月刊誌論文/code:pg_0710_06マテリアル インテグレーション 2007年10月号
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PDF/月刊誌論文/code:pg_0710_06 マテリアル インテグレーション 2007年10月号
INTER MATERIAL 原子・電子レベルからの材料界面設計
ナノデバイスに向けたシリコン/絶縁体界面の解明と設計のための試み
■著者
富士通研究所 金田 千穂子 他
■要約
本稿では,シリコンデバイスの中でもとりわけ微細化の著しいゲート絶縁膜とシリコン基板との界面領域を対象とした,第一原理計算および古典的分子動力学法による結果を紹介する.