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PDF/月刊誌論文/code:pg_0712_04マテリアル インテグレーション 2007年12月号
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PDF/月刊誌論文/code:pg_0712_04 マテリアル インテグレーション 2007年12月号
ELECTRONIC CERAMICS ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術
基板の熱ダメージを抑えた圧電膜のレーザーアニール
■著者
(独)産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門 集積加工研究グループ 馬場 創
■要約
近年,エレクトロニクス分野における電子機器の小型化,集積化において,圧電膜を利用した微小電気機械システム (MEMS) の需要はますます高まっており,特に圧電アクチュエーターで発生力の点で優位な10μm以上の厚膜を安価で簡便かつ短時間に形成できる成膜プロセスの開発が期待されている.また,圧電膜の性能は分極ドメインのダイナミクスに大きく影響を受けるため,膜の組成制御や結晶構造制御のみならず結晶性や粒径が非常に重要である.よって,今後,回路基板をはじめ種々の基板上に集積された圧電膜の圧電性向上のために,他の部位に熱影響を与えないアニール技術の開発は非常に重要である.
