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PDF/月刊誌論文/code:pg_0712_07マテリアル インテグレーション 2007年12月号
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PDF/月刊誌論文/code:pg_0712_07 マテリアル インテグレーション 2007年12月号
ELECTRONIC CERAMICS ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術
ADプロセスの基板内蔵用高誘電率膜およびマイクロ波誘電体膜への適用
■著者
東京工業大学大学院理工学研究科 鶴見 敬章
■要約
我々は,この新しいプロセスとして,本特集号で取り上げられているADプロセスを選択し,一連の研究を進めている.ADプロセスは,室温でセラミックス単体の緻密膜を形成できるおそらく唯一の方法であり,このプロセスを適用すれば上に述べた問題点を一挙にまた全て解決できる可能性がある.
