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PDF/月刊誌論文/code:pg_0712_11マテリアル インテグレーション 2007年12月号
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PDF/月刊誌論文/code:pg_0712_11 マテリアル インテグレーション 2007年12月号
ELECTRONIC CERAMICS ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術
エアロゾルデポジション法の光デバイス応用
■著者
NECナノエレクトロニクス研究所 主任研究員 中田 正文 他
■要約
我々は,AD法による薄膜形成を中心技術とするNEDOナノテクノロジープログラム「ナノレベル電子セラミックス材料低温成形・集積化技術」プロジェクトに2002年度より参画し,ナノフォトニックデバイス用の透明セラミックスとして機能性光学薄膜形成方法の開発に着手している.本報告では,2章でAD法の光デバイス適用の利点を説明し,3章では,AD法で形成したPLZT系薄膜の光学特性と電気光学効果を示す.ここでは,PLZT薄膜の透過率が,光学素子に適用可能なレベルであり,薄膜としてトップレベルの電気光学効果を有することを説明する.4章では,AD法の光学材料開発の新規な応用法として,微粒子金属のラズモン共鳴による光学特性の改善を紹介する.さらに,5章で,AD法で形成した光デバイスの例として,ファブリ・ペロー型変調器と,ファイバ電界/磁界センサーについて紹介する.
