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PDF/月刊誌論文/code:pg_0004_16 マテリアル インテグレーション 2000年4月号
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PDF/月刊誌論文/code:pg_0004_16 マテリアル インテグレーション 2000年4月号
INTER MATERIAL 21世紀に飛躍する材料
連載特集
セラミックス開発の新兵器:TG-MS [11]TG-MSによる吸着気体成分の定量分析
■著者
(株)東レリサーチセンター 材料物性研究部 高井 良浩、石切山 一彦
■要約
著者らは,エレクトロニクスを中心とする先端工業材料をはじめ,高分子材料,低分子有機材料,無機材料,金属材料などの様々な工業材料の加熱時のガス分析にTG-MSを適用してきた.さらに特殊な大型加熱炉を用いることにより,セラミックス基板やプリント基板の分析,マイクロソルダリング不良の解明,各種接合界面の気体発生による剥離解明,ハードディスクやSiウェーハなどの薄膜表面上の大気汚染による吸着物質,焼結過程の解析,液晶ディスプレイ(LCD)材料やプラズマディスプレイ(PDP)材料の分析にも活用している.本稿では,ゼオライトやPDP用前面板に使用されて最近注目されている酸化マグネシウムへの吸着成分の分析にTG-MS法を適用した結果について紹介する.
