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PDF/月刊誌論文/code:pg_0103_11 マテリアル インテグレーション 2001年3月号
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PDF/月刊誌論文/code:pg_0103_11 マテリアル インテグレーション 2001年3月号
ELECTRONIC CERAMICS ICF8(第8回国際フェライト会議)
連載特集
セラミックス開発の新兵器:TG-MS[21]TG-FTIRによるセラミックス原料の脱炭酸ガス反応
■著者
ネッチゲレイテバウ東京事務所 篠田 嘉雄
■要約
本年5月,ドイツのフランクフルトにおいて開かれた,TA-FTIR/MS シンポジウム skt-2000(主宰Bruker 社 ,Netzsch社)において,世界の最先端の研究者による発表と討論が行われた.その成果は,``Hyphenated Techniques in Thermal Analysis''(E. Kapsch,M. Hollering編Netzsch Geraetebau GmbH) に収められている.本稿では,これを元に,FTIRとMSの比較,発生ガス分析に最適な条件とは何かについて論じ,このコンセプトに従って設計・開発された弊社のTA-FTIRの特長について紹介を行う.セラミックスへの応用に関しては,同著に掲載されている,共沈法を用いて生成したセラミックス原料の脱炭酸ガス反応をTG-FTIRを用いて測定した研究を紹介する.
