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PDF/月刊誌論文/code:pg_0110_03マテリアル インテグレーション 2001年10月号
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PDF/月刊誌論文/code:pg_0110_03 マテリアル インテグレーション 2001年10月号
MATERIALS INTEGRATION 超はっ水・超親水表面
プラズマCVD法による超はっ水薄膜の形成と応用
■著者
名古屋大学大学院 工学研究科 材料プロセス工学専攻 教授 高井 治
■要約
FASや他の有機シリコン化合物のみを原料とした場合,形成膜は,水滴の接触角として90-107°を示す.FASに有機シリコン化合物,アルゴンなどを混合させると,接触角はさらに上昇する.どの原料を用いても,高はっ水性で透明な膜が形成できる.はっ水材料の代表であるポリテトラフルオロエチレン(PTFE; テフロン)の接触角が108°であることから,プラズマCVDによって,テフロンなみのはっ水性を示す薄膜が作製できる.さらに,膜の表面形状を制御することにより,接触角が150°以上の超はっ水膜の作製も可能になる.本稿では,こういったはっ水膜のマイクロ波プラズマCVDによる作製法と性質につき述べる.
