特集　ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術


常温衝撃固化現象とエアロゾルデポジション技術
■著者
岡山大学大学院　自然科学研究科　機能分子化学専攻　医用生命工学講座　明渡　純

■要約
本報告では,エアロゾルデポジション法において,常温衝撃固化現象を引き起こす要因や原理に触れ,その特徴や応用上のポイントを解説する.


PZTエアロゾル堆積膜の構造変化に及ぼすミリ波ポストアニール効果
■著者
大阪大学接合科学研究所　巻野　勇喜雄　他

■要約
本研究では,以上のようなミリ波加熱の特徴を考慮して,AD法により作製されたPZT膜のポストアニール法として適用し,PZT膜に対する選択加熱特性と均一加

熱性をPZT膜の結晶状態の変化から明らかにすると共に,歪み緩和に対する効果も検討した.


AD法におけるプラズマ援用効果
■著者
龍谷大学　理工学部　機械システム工学科　助教　森　正和　他

■要約
本稿では,高速原子ビーム,直流プラズマ,誘導結合プラズマといったプラズマ援用技術を用いて得られた結果を紹介する.


基板の熱ダメージを抑えた圧電膜のレーザーアニール
■著者
(独)産業技術総合研究所　先進製造プロセス研究部門　集積加工研究グループ　馬場　創

■要約
近年,エレクトロニクス分野における電子機器の小型化,集積化において,圧電膜を利用した微小電気機械システム (MEMS) の需要はますます高まっており,特に圧電アクチュエーターで発生力の点で優位な10μm以上の厚膜を安価で簡便かつ短時間に形成できる成膜プロセスの開発が期待されている.また,圧電膜の性能は分極ドメインのダイナミクスに大きく影響を受けるため,膜の組成制御や結晶構造制御のみならず結晶性や粒径が非常に重要である.よって,今後,回路基板をはじめ種々の基板上に集積された圧電膜の圧電性向上のために,他の部位に熱影響を与えないアニール技術の開発は非常に重要である.


微少圧電アクチュエータ形成およびそのアプリケーション展開
■著者
ブラザー工業株式会社　技術部　安井　基博

■要約
ここでは,「ナノレベル電子セラミクス材料低温成形・集積化技術プロジェクト」により実施されたAD法を用いたアプリケーション提案の一例として,インクジェットヘッドおよびマイクロ光スキャナの開発について,その対象アプリケーションの紹介と応用するに当たっての課題および克服のための技術的内容について述べる.


AD法を用いた高性能圧電厚膜の開発と超音波モータへの応用
■著者
NECトーキン株式会社　研究開発本部　川上　祥広

■要約
本特集号で取り上げられているエアロゾルデポジション法 (AD法) はセラミック微粒子を基板に高速で衝突させることにより,室温でも緻密な多結晶組織のセラミック厚膜を形成できる.そのため,予め所定の成分組成に合成した粉末を使用することが可能であり,材料組成の選択自由度が広く,また,室温で膜形成が可能なことから基板材質も広く選択することができるという他の成膜方法にない優れた特徴を持っている. その特徴を生かした高性能な圧電膜,及び圧電膜を応用した超音波モータを試作・評価したので以下に報告する.


ADプロセスの基板内蔵用高誘電率膜およびマイクロ波誘電体膜への適用
■著者
東京工業大学大学院理工学研究科　鶴見　敬章

■要約
我々は,この新しいプロセスとして,本特集号で取り上げられているADプロセスを選択し,一連の研究を進めている.ADプロセスは,室温でセラミックス単体の緻密膜を形成できるおそらく唯一の方法であり,このプロセスを適用すれば上に述べた問題点を一挙にまた全て解決できる可能性がある.


エアロゾルデポジションによる内蔵キャパシタ技術
■著者
株式会社富士通研究所　ビジネスインキュベーション研究所　主任研究員　今中　佳彦

■要約
現在,携帯機器は,携帯電話,PDA,携帯型音楽プレーヤ,携帯型ゲーム機など,その製品形態が多様化していくとともに,品種・需要ともに拡大傾向を示している.また,それぞれの機器で多機能化が急速に進んできている.例えば,携帯電話ではワンセグ視聴,GPS,高画素カメラ機能,音楽ダウンロード,各種無線LANなどの各機能が加わり,それぞれの機能モジュールが機器内部のプリント配線基板に搭載されている.この多機能化追求と同時に端末の薄型化が求められ,ハード技術の一層の技術変革が必要となってきている.現時点では,端末用主要部品・機構部品の小型化・薄型化の技術開発,部品配置ならびにそれらの実装技術の見直しなどで端末機器の薄型化の実現が図られている.また,モジュールに対しても,小型・薄型・高集積・低コストの要求を満たすものが求められ始め,モジュール用基板については,薄型化実現のための新技術の導入が期待されている.


磁性材料成膜におけるAD法の応用とその電磁波抑制効果
■著者
ソニー株式会社　モノ造り技術センター　技術開発室　加藤　義寛　他

■要約
本報では,AD法を用いて作製した磁性材料膜における磁気特性,ならびに電磁波抑制効果について紹介する.


イメージングセンサにおけるAD法の応用
■著者
TOTO株式会社　総合研究所　基礎研究部　清原　正勝

■要約
本報告では,弊社で考案したマイクロ波を用い人体の動きを感知できるイメージングセンサについて,まず紹介し,次に,このセンサの開発における超微粒子を高速で吹き付け常温でセラミックス膜を形成するエアロゾルデポジション法(AD法)のメリット,その適合性と今後の展望と課題について報告する.


エアロゾルデポジション法の光デバイス応用
■著者
NECナノエレクトロニクス研究所　主任研究員　中田　正文　他

■要約
我々は,AD法による薄膜形成を中心技術とするNEDOナノテクノロジープログラム「ナノレベル電子セラミックス材料低温成形・集積化技術」プロジェクトに2002年度より参画し,ナノフォトニックデバイス用の透明セラミックスとして機能性光学薄膜形成方法の開発に着手している.本報告では,2章でAD法の光デバイス適用の利点を説明し,3章では,AD法で形成したPLZT系薄膜の光学特性と電気光学効果を示す.ここでは,PLZT薄膜の透過率が,光学素子に適用可能なレベルであり,薄膜としてトップレベルの電気光学効果を有することを説明する.4章では,AD法の光学材料開発の新規な応用法として,微粒子金属のラズモン共鳴による光学特性の改善を紹介する.さらに,5章で,AD法で形成した光デバイスの例として,ファブリ・ペロー型変調器と,ファイバ電界/磁界センサーについて紹介する.


空間光変調器とエアロゾルデポジッション法
■著者
豊橋技術科学大学　兼　豊田高等専門学校　高木　宏幸　他

■要約
本報では,電流によって発生する磁界を用いてピクセルの磁化を制御する電流駆動型MOSLM (i-MOLSM) と,透明磁性膜と圧電厚膜とを組み合わせることにより,電圧でピクセルの磁化方位を制御する電圧駆動型MOSLM (v-MOSLM) について紹介する.また$v$-MOSLMの実現に重要なプロセス技術として,PZT厚膜を低温で形成するエアロゾルデポジッション法:AD法についても言及する.


連載
近代日本のセラミックス産業と科学・技術の発展に尽力した\\偉人,怪人,異能,努力の人々(30)近代日本の陶芸の発展に尽力した人々(6)\\眞に芸術を愛し,朝鮮語を話し,朝鮮人に愛され,朝鮮の山と民芸に身を捧げ,朝鮮の陶磁器について文を発表し,李朝工芸の美を発見した淺川伯教,淺川巧兄弟,特に墓が韓国にあり,韓国人によって保存されている唯一の日本人淺川巧
■著者
宗宮　重行