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PDF/月刊誌論文/code:pg_0105_06 マテリアル インテグレーション 2001年5月号
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PDF/月刊誌論文/code:pg_0105_06 マテリアル インテグレーション 2001年5月号
MATERIALS INTEGRATION ナノ・ケモテクノロジーへの招待-奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科-
上部金属電極の自己整合パターニングを可能とする強誘電体キャパシタ作製プロセス
■著者
物質創成科学研究科 演算・記憶素子科学講座 岡村総一郎 塩崎 忠
■要約
最近の物質科学の研究の特色は,物理学,化学,生物学などの従来の学問の枠を越えて研究が進展し,さらにテクノロジーの進半導体集積回路の高集積化はとどまるところを知らず,現在では数百万個のトランジスタが1チップ上に集積されるようになっている.これに伴い,パターンのサイズも小さくなり,現在では線幅0.13μm(130 nm)というように,ナノスケールの世界に入っている.集積回路を作製するためには,ダイオード,トランジスタ,コンデンサや抵抗といった要素部品,それらを接続するためのコンタクトホールや配線,更には端子への配線を取り出す引き出しパッドなどをシリコンウェハ上に正確に作り付けていく必要がある.我々は,不揮発性メモリーへの応用が盛んに研究されている強誘電体等の機能性複合酸化物に関し,自己整合パターニングを可能とする新規な微細加工プロセスを開発し,試行錯誤の末,良好な特性を示す強誘電体SrBi2 Ta2 O 9SBT)キャパシタの作製に成功した.ここでは,その概要と経過について紹介する.
